더굿시스템

APPLICATIONS

  • APPLICATIONS
  • APPLICATION
  • X-ray Target

    <X-ray Target>

    Cu-W

    Structure of X-ray target

    W/Cu-Diamond Target

    • W/Cu-Dia 일체형 구조
    • Brazing 소재 미사용
    • 열전도율 ≧ 1000W/mK

    W/Cu Bonding Strength Test

    • W/Cu 접합 강도는 기준 대비 우수한 성능을 보입니다.

    Roadmap for X-ray target material

    1st Stage

    • 현재 구조 적용에 적합
    • 800℃ Ag Brazing 적용 가능
    • 열전도율 ≧ 800W/m·K

    2st Stage

    • W/Cu-Dia 일체형 구조
    • Brazing 소재 미사용
    • 열전도율 ≧ 1000W/m·K
    • 고객 설계에 최적화 가능

    3st Stage

    • X-ray 발생 지점에 CVD-Diamond(~1500 W/mK) 적용
    • 히트 스프레더와 히트싱크 사이 인터페이스 없음
    • 고객 설계에 최적화 가능

    Key technology for 3rd stage X-ray Target


    THE GOODSYSTEM CORP.
    Add : 경기도 안산시 단원구 목내로 125
    Tel : 031-494-2522/Fax : 031-494-2525